DIFFUSION Datasheet(PDF) - 2SC5686 - Panasonic Semiconductor

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Qu'est-ce que diffusion

Dans les composants électroniques, la «diffusion» est l'un des processus de fabrication de semi-conducteurs, ce qui signifie le processus d'injection d'ions ou d'atomes dans des matériaux semi-conducteurs pour former des matériaux souhaités. La diffusion est utilisée pour contrôler la distribution des matériaux de dopage dans les dispositifs semi-conducteurs ou pour former des régions semi-conductrices avec les caractéristiques souhaitées.

La diffusion se compose des étapes suivantes:

Purification: affiner les matières premières semi-conductrices et préparer les composants dans un état propre. Ce processus garantit un processus de diffusion précis en supprimant les impuretés et en maintenant le substrat semi-conducteur propre.

Masquage: Pendant le processus de diffusion, un matériau de masquage est utilisé pour protéger le substrat pour définir la région de semi-conducteur souhaitée. Le masquage restreint la zone afin que la diffusion ne se produise que là où vous le souhaitez.

Diffusion: Injectez le matériau souhaité dans le substrat à l'aide d'un équipement de diffusion. Les ions ou les atomes pénètrent la surface du substrat semi-conducteur et se diffusent dans le substrat pour contrôler la concentration de la substance. Le temps et la température de diffusion sont des paramètres importants qui déterminent le taux de diffusion et la concentration d'une substance.

Diffusion inverse et purification: Une fois la diffusion terminée, le matériau indésirable est retiré à l'aide d'un équipement de diffusion ou de diffusion inversé. Cette étape est effectuée pour purifier le substrat semi-conducteur.

La diffusion est l'une des étapes importantes du processus de fabrication de semi-conducteurs, et elle affecte les caractéristiques électriques et le fonctionnement des dispositifs semi-conducteurs. En particulier, la diffusion est utilisée pour des tâches importantes telles que le contrôle du niveau de dopage des dispositifs semi-conducteurs, la formation de jonctions PN et la création de structures multicouches.

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Fabricant	No de pièce	Fiches technique	Description
Panasonic Semiconductor	2SC5686	75Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
	2SC5037	78Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion planar type
	2SD1259	48Kb/2P	Silicon NPN triple diffusion planar type
	2SC1473	47Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion planer type
	2SD1771	73Kb/2P	Silicon NPN triple diffusion planar type
	2SD1772	45Kb/2P	Silicon NPN triple diffusion planar type
	2SD2453	77Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion planar type
	2SC5931	67Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
	2SB1054	89Kb/3P	Silicon PNP triple diffusion planar type
	2SC6012	89Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
Guangdong Kexin Industr...	2SC5063	40Kb/1P	Silicon NPN Triple Diffusion Planar Type
Panasonic Semiconductor	2SC5912	78Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
Panasonic Semiconductor	2SC5905	94Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
Guangdong Kexin Industr...	2SD1259	40Kb/1P	Silicon NPN Triple Diffusion Planar Type
Panasonic Semiconductor	2SC4212	60Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion planar type
Nell Semiconductor Co.,...	2SC4110B	271Kb/4P	Silicon NPN triple diffusion planar transistor
Nell Semiconductor Co.,...	FJA13009	278Kb/4P	Silicon NPN triple diffusion planar transistor
Panasonic Semiconductor	2SC5902	78Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
	2SC5885	64Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type
	2SC5904	78Kb/3P	Silicon NPN triple diffusion mesa type

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Qu'est-ce que diffusion

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