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TRENCH Fiches technique, PDF

Mot-clé recherché : 'TRENCH' - Totale: 775 (3/39) Pages
FabricantNo de pièceFiches techniqueDescription
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Infineon Technologies A...
FP06R12W1T4_B3 Datasheet pdf image
921Kb/10P
EasyPIM Modul mit Trench
2013-10-03 revision:2.3
FP20R06W1E3_B11 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
2013-11-05 revision:2.0
FP50R06W2E3 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
2013-11-04 revision:2.2
FP15R12W1T4P_B11 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
V3.0 2017-05-04
FP35R12W2T4P_B11 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
V3.0 2017-05-03
FF300R12ME4 Datasheet pdf image
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EconoDUAL3 Modul mit Trench
2013-11-04 revision:3.1
FF300R17ME3 Datasheet pdf image
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EconoDUAL3 Modul mit Trench
2013-10-03 revision:2.1
FD600R06ME3_S2 Datasheet pdf image
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EconoDUAL3 Modul mit Trench
2013-10-03 revision:2.4
FF225R17ME4 Datasheet pdf image
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EconoDUAL3 Modul mit Trench
2014-06-06 revision:2.4
FP10R06W1E3 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
2013-10-03 revision:2.1
FP10R12W1T4 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
2013-10-03 revision:2.1
FP100R07N3E4 Datasheet pdf image
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EconoPIM3 Modul mit Trench
2013-11-05 revision:2.1
FP150R07N3E4 Datasheet pdf image
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EconoPIM3 Modul mit Trench
2013-11-05 revision:2.0
FP150R07N3E4_B11 Datasheet pdf image
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EconoPIM3 Modul mit Trench
2013-11-05 revision:2.0
FF225R12ME4_B11 Datasheet pdf image
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EconoDUAL3 Modul mit Trench
2013-11-05 revision:2.0
FP10R12W1T4P_B11 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
V3.0 2017-05-04
FP25R12W2T4P_B11 Datasheet pdf image
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EasyPIM Modul mit Trench
V3.0 2017-05-04
FF450R12ME4 Datasheet pdf image
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EconoDUAL3 Modul mit Trench
2013-11-04 revision:3.1
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PrimePACK2 Modul mit Trench
2013-11-05 revision:2.4
FP50R12KT4G_B15 Datasheet pdf image
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EconoPIM3 Modul mit Trench
2013-11-05 revision:3.0

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Qu'est-ce que TRENCH


Trench est l'une des technologies de fabrication de composants électroniques et est utilisée dans le processus de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.

Trench Technology est une technologie développée pour améliorer les performances électriques des appareils semi-conducteurs.

La technologie de la tranchée repense la structure des appareils semi-conducteurs pour améliorer la génération de chaleur et la dégradation des performances des appareils.

Avec la technologie des tranchées, une petite fosse (tranchée) peut être creusée à l'intérieur d'un dispositif semi-conducteur pour augmenter la surface de l'appareil.

Cela améliore les performances électriques car le chemin par lequel le courant circule est plus court.

La technologie des tranchées est principalement utilisée dans les dispositifs semi-conducteurs à haute performance tels que les MOSFET (transistors à effet de champ semi-conducteur d'oxyde métallique).

Ces dispositifs semi-conducteurs sont utilisés dans les circuits électroniques à grande vitesse, les dispositifs de conversion d'alimentation et les dispositifs de commande automobile.

Trench Technology joue un rôle très important dans l'industrie des composants électroniques modernes car elle améliore les performances et l'efficacité des appareils.

*Ces informations sont fournies à titre informatif uniquement, nous ne serons pas responsables des pertes ou dommages causés par les informations ci-dessus.


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