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EPITAXIAL Fiches technique, PDF

Mot-clé recherché : 'EPITAXIAL' - Totale: 1279 (8/64) Pages
FabricantNo de pièceFiches techniqueDescription
Company Logo Img
Panasonic Semiconductor
MA176WK Datasheet pdf image
73Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
2SC2519 Datasheet pdf image
233Kb/6P
SILICON NPN EPITAXIAL PLANAR
MA2SP01 Datasheet pdf image
56Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA27V05 Datasheet pdf image
54Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA791 Datasheet pdf image
65Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA2C165 Datasheet pdf image
49Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2S728 Datasheet pdf image
46Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2SV04 Datasheet pdf image
38Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2ZV05 Datasheet pdf image
40Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3J741 Datasheet pdf image
44Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3J745E Datasheet pdf image
46Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3S795 Datasheet pdf image
46Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2B150 Datasheet pdf image
50Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2S331 Datasheet pdf image
39Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2Z371 Datasheet pdf image
42Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3V175E Datasheet pdf image
48Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3X075D Datasheet pdf image
41Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3X198 Datasheet pdf image
48Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3X200F Datasheet pdf image
47Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA3X557 Datasheet pdf image
41Kb/2P
Silicon epitaxial planar type

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Qu'est-ce que EPITAXIAL


Dans les composants électroniques, «épitaxial» est un terme utilisé dans la technologie de fabrication de semi-conducteurs et se réfère à une technologie qui forme une couche de semi-conductrice avec un processus de croissance critique. Cette technologie est utilisée pour améliorer les performances des appareils semi-conducteurs, en particulier dans la fabrication de semi-conducteurs à base de silicium.

Le dépôt épitaxial est le processus de dépôt d'une ou plusieurs couches supplémentaires au-dessus d'un prototype de semi-conducteur existant. Ce processus est également appelé épitaxie et se fait généralement en utilisant des méthodes telles que le dépôt chimique de vapeur (CVD) ou le dépôt physique de vapeur (PVD).

Le dépôt épitaxial est utilisé à diverses fins:

Performances améliorées: améliore la mobilité et la vitesse des électrons en formant une structure cristalline de meilleure qualité que le matériau de base des appareils semi-conducteurs.

DOPING: Dans le processus épitaxial, des atomes ou des ions spécifiques peuvent être dopés pour donner des propriétés électriques souhaitées.

Amélioration de la stabilité: la couche épitaxiale a la même structure de réseau que le prototype sous-jacent, ce qui le rend plus stable que les couches formées par d'autres techniques.

Intégration de l'appareil: les processus épitaxiaux sont utilisés pour intégrer plusieurs appareils dans une seule puce semi-conductrice en déposant plusieurs couches.

Le dépôt épitaxial est considéré comme une technologie clé dans la fabrication de semi-conducteurs et joue un rôle clé dans l'amélioration des performances et de l'efficacité des appareils semi-conducteurs. Cette technologie constitue la base du développement d'un large éventail de produits dans l'industrie des semi-conducteurs, y compris des microprocesseurs à haute performance, des puces mémoire et des LED.

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