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EPITAXIAL Fiches technique, PDF

Mot-clé recherché : 'EPITAXIAL' - Totale: 1279 (4/64) Pages
FabricantNo de pièceFiches techniqueDescription
Company Logo Img
Panasonic Semiconductor
MA27P11 Datasheet pdf image
67Kb/3P
SILICON EPITAXIAL PLANAR TYPE
MA26V12 Datasheet pdf image
76Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
2SD1304 Datasheet pdf image
179Kb/5P
Si NPN Epitaxial Planar
MA2ZD18 Datasheet pdf image
69Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
2SA887 Datasheet pdf image
121Kb/3P
SILICON PNP EPITAXIAL PLANAR
MA795 Datasheet pdf image
76Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA2Z72000L Datasheet pdf image
343Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
DA4J101K0R Datasheet pdf image
314Kb/5P
Silicon epitaxial planar type
XN09D58 Datasheet pdf image
102Kb/4P
Silicon PNP epitaxial planar type (Tr) Silicon epitaxial planar type (SBD)
XN09D61 Datasheet pdf image
107Kb/5P
Silicon PNP epitaxial planar type (Tr) / Silicon epitaxial planar type (SBD)
2SA880 Datasheet pdf image
128Kb/3P
SI PNP EPITAXIAL PLANAR
MA27V17 Datasheet pdf image
79Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA3X100 Datasheet pdf image
77Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA26111 Datasheet pdf image
279Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA2YD33 Datasheet pdf image
202Kb/2P
Silicon epitaxial planar type
MA132A Datasheet pdf image
106Kb/4P
Silicon epitaxial planar type
2SC2860 Datasheet pdf image
213Kb/6P
Si NPN Epitaxial Planar
MA27077 Datasheet pdf image
73Kb/3P
Silicon epitaxial planar type
MA142WA Datasheet pdf image
107Kb/4P
Silicon epitaxial planar type
MA26V11 Datasheet pdf image
71Kb/3P
Silicon epitaxial planar type

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Qu'est-ce que EPITAXIAL


Dans les composants électroniques, «épitaxial» est un terme utilisé dans la technologie de fabrication de semi-conducteurs et se réfère à une technologie qui forme une couche de semi-conductrice avec un processus de croissance critique. Cette technologie est utilisée pour améliorer les performances des appareils semi-conducteurs, en particulier dans la fabrication de semi-conducteurs à base de silicium.

Le dépôt épitaxial est le processus de dépôt d'une ou plusieurs couches supplémentaires au-dessus d'un prototype de semi-conducteur existant. Ce processus est également appelé épitaxie et se fait généralement en utilisant des méthodes telles que le dépôt chimique de vapeur (CVD) ou le dépôt physique de vapeur (PVD).

Le dépôt épitaxial est utilisé à diverses fins:

Performances améliorées: améliore la mobilité et la vitesse des électrons en formant une structure cristalline de meilleure qualité que le matériau de base des appareils semi-conducteurs.

DOPING: Dans le processus épitaxial, des atomes ou des ions spécifiques peuvent être dopés pour donner des propriétés électriques souhaitées.

Amélioration de la stabilité: la couche épitaxiale a la même structure de réseau que le prototype sous-jacent, ce qui le rend plus stable que les couches formées par d'autres techniques.

Intégration de l'appareil: les processus épitaxiaux sont utilisés pour intégrer plusieurs appareils dans une seule puce semi-conductrice en déposant plusieurs couches.

Le dépôt épitaxial est considéré comme une technologie clé dans la fabrication de semi-conducteurs et joue un rôle clé dans l'amélioration des performances et de l'efficacité des appareils semi-conducteurs. Cette technologie constitue la base du développement d'un large éventail de produits dans l'industrie des semi-conducteurs, y compris des microprocesseurs à haute performance, des puces mémoire et des LED.

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