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DIFFUSED Fiches technique, PDF

Mot-clé recherché : 'DIFFUSED' - Totale: 311 (2/16) Pages
FabricantNo de pièceFiches techniqueDescription
Company Logo Img
Toshiba Semiconductor
2SD845 Datasheet pdf image
242Kb/2P
SILICON NPN TRIPLE DIFFUSED TYPE
2SC5368 Datasheet pdf image
133Kb/4P
Silicon NPN Triple Diffused Type
2SB1667 Datasheet pdf image
161Kb/5P
Silicon PNP Triple Diffused Type
TBF870 Datasheet pdf image
119Kb/4P
SILICON PNP TRIPLE DIFFUSED TYPE
2SC6042 Datasheet pdf image
182Kb/5P
Silicon NPN Triple Diffused Type
2SC2791 Datasheet pdf image
105Kb/2P
SILICON NPN TRIPLE DIFFUSED TYPE
CRG04A Datasheet pdf image
301Kb/7P
Rectifier Diode Silicon Diffused Junction
2SB1411 Datasheet pdf image
148Kb/5P
Silicon PNP Triple Diffused Type
2SD2012 Datasheet pdf image
131Kb/5P
Silicon NPN Triple Diffused Type
2SD2204 Datasheet pdf image
138Kb/5P
Silicon NPN Triple Diffused Type
2SA1263 Datasheet pdf image
94Kb/2P
SILICON PNP TRIPLE DIFFUSED TYPE
2SD797 Datasheet pdf image
125Kb/3P
SILICON NPN TRIPLE DIFFUSED TYPE
2SA1264 Datasheet pdf image
95Kb/2P
SILICON PNP TRIPLE DIFFUSED TYPE
2SC5122 Datasheet pdf image
113Kb/4P
Silicon NPN Triple Diffused Type
2SB1640 Datasheet pdf image
142Kb/5P
Silicon PNP Triple Diffused Type
2SC3180 Datasheet pdf image
90Kb/2P
SILICON NPN TRIPLE DIFFUSED TYPE
CMG03A Datasheet pdf image
310Kb/7P
Rectifier Diode Silicon Diffused Junction
CMG06A Datasheet pdf image
297Kb/7P
Rectifier Diode Silicon Diffused Junction
CRG11B Datasheet pdf image
307Kb/7P
Rectifier Diode Silicon Diffused Junction
2022-05-23 Rev.1.0
SF3GZ47 Datasheet pdf image
292Kb/5P
TOSHIBA THYRISTOR SILICON DIFFUSED TYPE

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Qu'est-ce que DIFFUSED


Dans les composants électroniques, diffusé est un terme couramment utilisé dans le processus de fabrication de semi-conducteurs.

Dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, diffus fait généralement référence à une technologie qui dissout les impuretés dans un matériau semi-conducteur et provoque une réaction d'oxydation pour créer un dispositif semi-conducteur souhaité.

Ces technologies sont l'un des processus importants pour déterminer les caractéristiques des dispositifs semi-conducteurs.

Par exemple, dans les dispositifs semi-conducteurs utilisant du silicium, la diffusion (une technologie qui provoque une réaction d'oxydation par la fusion) est couramment utilisée pour former une jonction PN (jonction positive négative) à l'intérieur du dispositif.

Cette jonction PN est l'un des composants de base des diodes, des transistors et des circuits intégrés utilisés dans divers composants électroniques, et est un facteur important pour déterminer les caractéristiques électriques des dispositifs semi-conducteurs.

*Ces informations sont fournies à titre informatif uniquement, nous ne serons pas responsables des pertes ou dommages causés par les informations ci-dessus.


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