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DIFFUSED Fiches technique, PDF

Mot-clé recherché : 'DIFFUSED' - Totale: 119 (1/6) Pages
FabricantNo de pièceFiches techniqueDescription
Company Logo Img
Ledil, Inc.
CP13665 Datasheet pdf image
2Mb/6P
~25째 diffused beam
CP13666 Datasheet pdf image
2Mb/5P
~25째 diffused beam.
FCP14966 Datasheet pdf image
6Mb/7P
~18째 diffused spot beam
FCP15345 Datasheet pdf image
6Mb/5P
~18째 diffused spot beam
FCA15450 Datasheet pdf image
7Mb/6P
~18째 diffused spot beam
C15013 Datasheet pdf image
6Mb/6P
~7째 diffused spot beam
CA13629 Datasheet pdf image
8Mb/10P
~13째 diffused spot beam.
CP17588 Datasheet pdf image
1Mb/4P
~14째 diffused spot beam
CA16707 Datasheet pdf image
1Mb/4P
~15째 diffused spot beam
CP17593 Datasheet pdf image
1Mb/4P
~16째 diffused spot beam
FA11205 Datasheet pdf image
2Mb/7P
~16째 diffused spot beam.
CA15519 Datasheet pdf image
5Mb/5P
~15째 diffused spot beam
C12491 Datasheet pdf image
2Mb/5P
~145째 wide diffused beam
CA13014 Datasheet pdf image
1Mb/6P
~145째 wide diffused beam
CA14308 Datasheet pdf image
3Mb/5P
~16째 diffused spot beam
CP14996 Datasheet pdf image
8Mb/8P
~18째 diffused spot beam
CN17274 Datasheet pdf image
5Mb/4P
~50째 diffused wide beam. 4X1 variant in glossy white with diffused lenses.
CP12818 Datasheet pdf image
2Mb/4P
~16째 diffused spot beam optimized
CP12671 Datasheet pdf image
2Mb/4P
~16째 diffused spot beam optimized
DAISY-MINI-WW-D Datasheet pdf image
333Kb/4P
~65째 wide beam. Variant with diffused lenses

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Qu'est-ce que DIFFUSED


Dans les composants électroniques, diffusé est un terme couramment utilisé dans le processus de fabrication de semi-conducteurs.

Dans le processus de fabrication de semi-conducteurs, diffus fait généralement référence à une technologie qui dissout les impuretés dans un matériau semi-conducteur et provoque une réaction d'oxydation pour créer un dispositif semi-conducteur souhaité.

Ces technologies sont l'un des processus importants pour déterminer les caractéristiques des dispositifs semi-conducteurs.

Par exemple, dans les dispositifs semi-conducteurs utilisant du silicium, la diffusion (une technologie qui provoque une réaction d'oxydation par la fusion) est couramment utilisée pour former une jonction PN (jonction positive négative) à l'intérieur du dispositif.

Cette jonction PN est l'un des composants de base des diodes, des transistors et des circuits intégrés utilisés dans divers composants électroniques, et est un facteur important pour déterminer les caractéristiques électriques des dispositifs semi-conducteurs.

*Ces informations sont fournies à titre informatif uniquement, nous ne serons pas responsables des pertes ou dommages causés par les informations ci-dessus.


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