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EPITAXIAL Fiches technique, PDF

Mot-clé recherché : 'EPITAXIAL' - Totale: 1026 (1/52) Pages
FabricantNo de pièceFiches techniqueDescription
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Toshiba Semiconductor
TPS816F Datasheet pdf image
173Kb/6P
Silicon Epitaxial Planar
TPS820 Datasheet pdf image
160Kb/5P
Silicon Epitaxial Planar
TPS852 Datasheet pdf image
247Kb/12P
Silicon Epitaxial Planar
TPS841 Datasheet pdf image
225Kb/6P
Silicon Epitaxial Planar
TPS842A Datasheet pdf image
226Kb/6P
Silicon Epitaxial Planar
TPS851 Datasheet pdf image
272Kb/12P
Silicon Epitaxial Planar
2SC3298 Datasheet pdf image
109Kb/2P
SILICON NPN EPITAXIAL TYPE
2SA510 Datasheet pdf image
126Kb/3P
SILICON PNP EPITAXIAL TYPE
2SA1195 Datasheet pdf image
126Kb/3P
SILICON PNP EPITAXIAL TRANSISTOR
2SB1481 Datasheet pdf image
137Kb/4P
Silicon PNP Epitaxial Type
2SC5714 Datasheet pdf image
139Kb/5P
Silicon NPN Epitaxial Type
1S2186 Datasheet pdf image
59Kb/2P
SILICON EPITAXIAL PLANAR TYPE
2SC6061 Datasheet pdf image
205Kb/5P
Silicon NPN Epitaxial Type
TPC6501 Datasheet pdf image
175Kb/5P
Silicon NPN Epitaxial Type
2SB1495 Datasheet pdf image
137Kb/4P
Silicon PNP Epitaxial Type
JDV2S22FS Datasheet pdf image
130Kb/3P
Silicon Epitaxial Planar Type
JDV2S28FS Datasheet pdf image
114Kb/3P
Silicon Epitaxial Planar Type
2SC6033 Datasheet pdf image
212Kb/5P
Silicon NPN Epitaxial Type
2SC6075 Datasheet pdf image
168Kb/5P
Silicon NPN Epitaxial Type
TPS610F Datasheet pdf image
209Kb/5P
Silicon NPN Epitaxial Planar

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Qu'est-ce que EPITAXIAL


Dans les composants électroniques, «épitaxial» est un terme utilisé dans la technologie de fabrication de semi-conducteurs et se réfère à une technologie qui forme une couche de semi-conductrice avec un processus de croissance critique. Cette technologie est utilisée pour améliorer les performances des appareils semi-conducteurs, en particulier dans la fabrication de semi-conducteurs à base de silicium.

Le dépôt épitaxial est le processus de dépôt d'une ou plusieurs couches supplémentaires au-dessus d'un prototype de semi-conducteur existant. Ce processus est également appelé épitaxie et se fait généralement en utilisant des méthodes telles que le dépôt chimique de vapeur (CVD) ou le dépôt physique de vapeur (PVD).

Le dépôt épitaxial est utilisé à diverses fins:

Performances améliorées: améliore la mobilité et la vitesse des électrons en formant une structure cristalline de meilleure qualité que le matériau de base des appareils semi-conducteurs.

DOPING: Dans le processus épitaxial, des atomes ou des ions spécifiques peuvent être dopés pour donner des propriétés électriques souhaitées.

Amélioration de la stabilité: la couche épitaxiale a la même structure de réseau que le prototype sous-jacent, ce qui le rend plus stable que les couches formées par d'autres techniques.

Intégration de l'appareil: les processus épitaxiaux sont utilisés pour intégrer plusieurs appareils dans une seule puce semi-conductrice en déposant plusieurs couches.

Le dépôt épitaxial est considéré comme une technologie clé dans la fabrication de semi-conducteurs et joue un rôle clé dans l'amélioration des performances et de l'efficacité des appareils semi-conducteurs. Cette technologie constitue la base du développement d'un large éventail de produits dans l'industrie des semi-conducteurs, y compris des microprocesseurs à haute performance, des puces mémoire et des LED.

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